[发明专利]多重气体耦合金属有机物化学气相沉积设备反应腔体无效
申请号: | 201010144220.3 | 申请日: | 2010-04-12 |
公开(公告)号: | CN102021530A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
发明(设计)人: | 甘志银;胡少林 | 申请(专利权)人: | 甘志银 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/455 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 李平 |
地址: | 430074 *** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 一种多重气体耦合金属有机物化学气相沉积设备反应腔体,包括反应气体进气管道,喷淋盘、喷淋口、喷淋冷却腔、载片盘、衬底、反应腔、反应腔冷却腔、石英整流罩、缓冲喷淋腔、支承轴、加热器,所述缓冲喷淋腔与反应腔之间依次设有上、中、下喷淋盘,喷林口一穿过上喷淋盘、中喷淋盘及下喷淋盘,连通喷淋缓冲腔与反应腔,喷淋口二穿过中喷淋盘、下喷淋盘,连通喷淋缓冲腔与反应腔,一进气管道从一侧接入中喷淋腔。本发明的优点是反应腔具有水平和垂直方向的气流流场,通过垂直方向气流与水平方向气流的相互补偿,使反应气体混合均匀、减少预反应及气体反弹的湍流,抑制了反热涡流,提高外延生长的均匀性也解决了腔体内附着颗粒的清洗问题。 | ||
搜索关键词: | 多重 气体 耦合 金属 有机物 化学 沉积 设备 反应 | ||
【主权项】:
一种多重气体耦合金属有机物化学气相沉积设备反应腔体,包括:反应气体A进气管道(1)、反应气体B进气管道(2)、反应气体C进气管道(3)、反应气体D进气管道(4)、反应气体E进气管道(22)、上喷淋盘(24)、中喷淋盘(25)、下喷淋盘(26)、喷淋口一(8)、喷淋口二(23)、中喷淋腔(27)、喷淋冷却腔(6)、喷淋冷却液进口(16)、喷淋冷却液出口(15)、载片盘(10)、衬底(11)、反应腔(14)、反应腔冷却腔(21)、反应腔冷却液进口(18)、反应腔冷却液出口(19)、石英整流罩(20)、排气口(13)、缓冲喷淋腔(7)、腔体外壳(17)、缓冲挡板(5)、支承轴(9)、加热器(12),反应气体A进气管道(1)从反应腔(14)顶端接入,反应腔(14)下方设有载片盘(10),载片盘(10)的上部设有喷淋口一(8),反应气体B进气管道(2)、反应气体C进气管道(3)及反应气体D的进气管道(4)同轴包裹在反应气体A进气管道(1)的外壁上,加热器(12)与反应腔(14)由石英整流罩(20)隔开,腔体外壳(17)与反应腔(14)之间设有一层反应腔冷却腔(21),载片盘(10)下部设有加热器(12),排气口(13)位于反应腔(14)的底部,其特征在于所述缓冲喷淋腔(7)与反应腔(14)之间依次设有上喷淋盘(24)、中喷淋盘(25)、下喷淋盘(26),反应气体E进气管道(22)从一侧接入上喷淋盘(24)与中喷淋盘(25)之间的中喷淋腔(27),喷淋冷却液进口(16)与喷淋冷却液出口(15)安装于中喷淋盘(25)、下喷淋盘(26)之间,喷林口一(8)垂直于载片盘(10),穿过上喷淋盘(24)、中喷淋盘(25)及下喷淋盘(26),连通喷淋缓冲腔(7)与反应腔(14),喷淋口二(23)垂直于载片盘(10),穿过上中喷淋盘(25)及下喷淋盘(26),连通中喷淋腔(27)与反应腔(14)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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