[发明专利]红外线发光元件有效
申请号: | 200980108660.9 | 申请日: | 2009-03-13 |
公开(公告)号: | CN101971367A | 公开(公告)日: | 2011-02-09 |
发明(设计)人: | 上之康一郎;久世直洋 | 申请(专利权)人: | 旭化成微电子株式会社 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种抑制由热激发的空穴(孔)引起的暗电流和扩散电流的红外线发光元件。在第一n型化合物半导体层(102)中产生的热激发载流子(空穴)要向π层(105)方向扩散,但是通过将带隙大于第一n型化合物半导体层(102)和π层(105)的带隙而抑制该扩散的n型宽带隙层(103)设置于第一n型化合物半导体层(102)与π层(105)之间,来减少由空穴引起的暗电流。关于n型宽带隙层(103),由于n型掺杂而其带隙相对地向价带方向位移,作为被热激发的空穴的扩散势垒而更有效地发挥功能。也就是说,调整n型宽带隙层(103)的带隙和n型掺杂以抑制热激发载流子的扩散。 | ||
搜索关键词: | 红外线 发光 元件 | ||
【主权项】:
一种红外线发光元件,其特征在于,具备:半导体衬底;上述半导体衬底上的第一n型化合物半导体层;上述第一n型化合物半导体层上的n型宽带隙层;以及上述n型宽带隙层上的p型掺杂的π层,其中,上述n型宽带隙层以外的层的带隙为0.41eV以下,上述n型宽带隙层的带隙大于上述第一n型化合物半导体层的带隙和上述π层的带隙。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旭化成微电子株式会社,未经旭化成微电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980108660.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种渐近式均压线结构
- 下一篇:一种风力发电用的永磁同步发电机转子