[实用新型]电镀槽保护盖及电镀槽有效
| 申请号： | 200920210519.7 | 申请日： | 2009-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN201605341U | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 吕海波;黄利松 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D17/02 | 分类号： | C25D17/02 |
| 代理公司： | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人： | 李强 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种电镀槽保护盖，其特征在于，其为凹槽，凹槽的槽底为斜面，所述成斜面的槽底具有一高端和一低端，在所述的低端具有一贯通槽底的通孔，在通孔处安装有可将凹槽内的液体排出的排液管。本实用新型中的电镀槽，增加了保护盖，在电镀过程中，可以防止杂质混入电镀液中，保证了电镀层的纯度。而且结构简单，使用方便。 | ||
| 搜索关键词： | 电镀 保护 | ||
【主权项】：
电镀槽保护盖，其特征在于，其为凹槽，凹槽的槽底为斜面，所述成斜面的槽底具有一高端和一低端，在所述的低端具有一贯通槽底的通孔，在通孔处安装有可将凹槽内的液体排出的排液管。
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