[实用新型]晶体生长炉无效

专利信息
申请号: 200920076795.9 申请日: 2009-06-22
公开(公告)号: CN201433250Y 公开(公告)日: 2010-03-31
发明(设计)人: 陈之战;施尔畏;严成锋;肖兵 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 20005*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型涉及一种晶体生长炉,属于晶体生长装置领域。本实用新型采用进样室和晶体生长室,进样室和晶体生长室连接真空系统和进气系统。本实用新型的晶体生长装置,能够克服现有技术的固有缺陷,保证了晶体生长室中的保温材料不和空气接触,最大程度减少了保温材料和生长室对氮及污染物的吸附。
搜索关键词: 晶体生长
【主权项】:
1、晶体生长炉,包括晶体生长室(1)、送样室(2)、真空插板阀(3)、生长坩埚(4)、真空系统(5)、进气系统(6)、传递装置(7),其特征在于:晶体生长室(1)和送样室(2)之间相互为上下排列方式或左右排列方式排列;真空插板阀(3)位于晶体生长室(1)与送样室(2)之间并连接晶体生长室(1)与送样室(2),真空插板阀(3)可开启或关闭;传递装置(7)连接于送样室上;生长坩埚(4)通过传递装置(7)由送样室(2)经真空插板阀(3)送入晶体生长室(1);所述晶体生长室(1)和送样室(2)分别连接有真空系统(5)和进气系统(6)。
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