[发明专利]一种带空气间隙的深隔离槽的制造方法

摘要

本发明公开了一种带空气间隙的深隔离槽的制造方法，利用可显影BARC材料具有可溶解于显影液的特性，利用该种材料作为赝层，通过在深隔离槽中填充赝层形成空气间隙占位，接着利用某些材料可以在曝光后激活产生SiO2的性质，用该种材料封口(作为覆盖介质层)，然后通过光刻形成小孔，同时在显影中将赝层材料可显影的BARC去除形成空气间隙，然后紫外光照射激活使之生成SiO2，最后填充介质层再回刻或通过化学机械抛光去除有源区上的介质层，形成具有空气间隙的深隔离槽。该方法可以进一步减小寄生电容以提高深隔离槽的隔离表现，同时工艺控制能力更强，良品率更高。

主权项

一种带空气间隙的深隔离槽的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)光刻刻蚀硅基板形成深隔离槽；(2)在深隔离槽的侧壁成长侧壁保护层；(3)可显影BARC材料作为赝层填充部分深隔离槽；(4)覆盖介质层填充深隔离槽；(5)光刻在深隔离槽中心产生小孔；(6)显影去除被曝光的覆盖介质层材料，同时去除赝层材料；(7)紫外光照射激活覆盖介质层材料形成氧化物；(8)介质层填充覆盖介质层的小孔，在深隔离槽内形成空气间隙；(9)回刻或通过化学机械抛光去除有源区上的介质层。