[发明专利]高比表面基底负载Bi2WO6光催化膜、方法及应用有效
| 申请号： | 200910197580.7 | 申请日： | 2009-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN101745402A | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 王文中;徐婕慧 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海硅酸盐研究所 |
| 主分类号： | B01J23/888 | 分类号： | B01J23/888;B01J23/31;B01J27/24;B01J35/02;B01J37/00;A62D3/17;B01D53/86;B01D53/72;A01N59/16;A01N59/20;A01P1/00;C02F1/30;C02F101/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种高比表面基底负载的Bi2WO6光催化膜、方法及应用。首先，在60～300℃下制备Bi2WO6纳米粉体，再将洁净的高比表面基底浸入Bi2WO6悬浮液中制得Bi2WO6膜，最后经100～950℃热处理，制得高比表面基底负载的Bi2WO6光催化膜。所述的高比表面基底为金属网、泡沫金属或多孔陶瓷。所制备的Bi2WO6膜具有Bi2WO6颗粒尺寸小、光催化活性高、循环性能好、制备工艺简单及生产成本低等特点。同时，此光催化膜可以方便地回收和再利用，解决了纳米光催化剂实际应用中回收困难的难题。用于可见光下降解RhB、空气净化以及光催化抗菌活性方面。 | ||
| 搜索关键词： | 比表面 基底 负载 bi sub wo 光催化 方法 应用 | ||
【主权项】：
高比表面基底负载Bi2WO6光催化膜，其特征在于Bi2WO6纳米粉体沉积在高比表面基底上，生成Bi2WO6光催化膜，所述的高比表面基底为金属网、泡沫金属或多孔陶瓷。
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