[发明专利]可清洁水刀或风刀出口的光学工艺设备有效

专利信息
申请号: 200910168907.8 申请日: 2009-09-02
公开(公告)号: CN101653770A 公开(公告)日: 2010-02-24
发明(设计)人: 许培郁;陈建勋 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B5/02;B05B15/02
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁 挥;祁建国
地址: 台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明公开了一种光学工艺设备,其包含一清除装置、一刮除件以及一传动装置。清除装置用来自出口射出液体或气体以清除进入该光学工艺设备的基板上的化学试剂。刮除件伸入该出口且厚度小于该出口的宽度。传动装置装设于该清除装置上并连接于该刮除件,用来带动该刮除件沿该出口来回移动,以清除该出口间的堵塞。
搜索关键词: 清洁 出口 光学 工艺设备
【主权项】:
1、一种光学工艺设备,其特征在于,包含:一清除装置,其包含一出口,用来自该出口射出一液体或一气体;一刮除件,该刮除件伸入该出口的间,且厚度小于该出口的宽度;以及一传动装置,装设于该清除装置上并连接于该刮除件,用来带动该刮除件沿该出口移动,以清除该出口间的堵塞。
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