[发明专利]等离子体处理设备及其气体分配装置

摘要

本发明公开了一种气体分配装置，其气体分配板的顶部交替设置多条第一输气通道和多条第二输气通道，两者中气流方向相反；所述第一输气通道和第二输气通道的底部均设有多个送气孔。在所述第一输气通道中，靠近进气端的送气孔流出的气体量较多，靠近封闭端的送气孔流出的气体量较少；所述第二输气通道中正好相反。由于所述第一输气通道和第二输气通道交替设置，因此，自相邻的若干送气孔送出的气体的总量均大体相等，从而在反应腔室的径向上气体分布较为均匀。本发明所提供的气体分配装置结构简单、加工方便、成本较低，并可以确保气体在反应腔室的径向均匀分布。

主权项

一种气体分配装置，用于等离子体处理设备，包括大体水平设置并大体呈方形的气体分配板，其特征在于，所述气体分配板的顶部具有大体相平行的多条第一输气通道和多条第二输气通道；所述第一输气通道和所述第二输气通道交替设置，且均自所述气体分配板的第一侧延伸至与所述第一侧相对的第二侧；所述第一输气通道和所述第二输气通道均一端进气而另一端封闭，且两者的气体流向相反；所述第一输气通道和所述第二输气通道的底部均设有多个贯穿所述气体分配板的送气孔，各所述送气孔沿气体流动方向排列。