[发明专利]搪瓷残次品的瓷釉去除及回收方法

摘要

本发明公开了一种搪瓷残次品的瓷釉去除及回收方法，包括如下步骤：将反应釜中放入氢氧化钠水溶液和搪瓷残次品，通入水蒸汽直接加热，压力达到0.7～0.8MPa后停止通水蒸汽，间接加热，反应，取出搪瓷残次品的坯件，得到溶液1；坯件经水猝冷，打砂处理除去瓷层，水洗、干燥后重新涂搪使用；将溶液1过滤，滤液用酸中和，得到溶液2；向溶液2中加入硅溶胶母液，得到溶液3；向溶液3中加入盐酸水溶液，得到溶液4；在70℃～80℃，反应，调节pH，陈化，将沉淀物洗涤，干燥得到二氧化硅。本发明的方法，提高了搪瓷坯件的回收率，同时对瓷釉中的二氧化硅进行再利用，即达到了节约资源的目的，同时消除了原工艺废碱液的排放问题。

主权项

1. 搪瓷残次品的瓷釉去除及回收方法，其特征是包括如下步骤：将反应釜中放入质量比为0.35～0.50∶1的质量浓度为40％～60％的氢氧化钠水溶液和搪瓷残次品，通入水蒸汽直接加热，压力达到0.7～0.8MPa后停止通水蒸汽，间接加热，在150℃～160℃，反应3～5小时，取出搪瓷残次品的坯件，得到溶液1；所述坯件经5℃～20℃的水猝冷，打砂处理除去瓷层，水洗、干燥后重新涂搪使用；将所述溶液1过滤，滤液用酸中和至pH为9.0～10.5，得到溶液2；向所述溶液2中加入溶液2体积的5％～15％的pH为9.0～10.5的硅溶胶母液，得到溶液3，所述硅溶胶母液用模数2.4的硅酸钠制得，其中SiO2质量浓度为7.5％～8.5％；向溶液3中加入质量百分浓度为8％～12％的盐酸水溶液，使pH为9.0～10.5得到溶液4；所述溶液4在70℃～80℃，反应1.0～3.0小时，调节pH为3.5～4.5，陈化0.5～1小时，将沉淀物洗涤，干燥得到二氧化硅。