[发明专利]高转化率硅基多结多叠层PIN薄膜太阳能电池及其制造方法有效
申请号: | 200910043930.4 | 申请日: | 2009-07-20 |
公开(公告)号: | CN101866963A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 李廷凯;李晴风;陈建国 | 申请(专利权)人: | 湖南共创光伏科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/06;H01L31/0216;H01L31/0232;H01L31/18;H01L31/20 |
代理公司: | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人: | 马强 |
地址: | 421001 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明提出了多结多叠层的薄膜太阳能电池及其制造方法。所述多结多叠层结构可以从相关的六种材料中选用形成二结,三结,四结,五结,六结薄膜太阳能电池。本发明采用激光结晶工艺,等离子掺杂工艺和PECVD过渡层工艺来改善各层之间的界面性能,如降低各叠层之间的界面电阻和增强薄膜材料结晶性能,并用氢化处理工艺来保持各层材料性能的稳定和改善透明导电薄膜材料和界面的透光率和导电性。电池转换效率可望达到12%-18%,并具有较好的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 转化 基多 结多叠层 pin 薄膜 太阳能电池 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种高转化率硅基多结多叠层PIN薄膜太阳能电池,其特征是,该电池的结构为以下诸种之一:(1)基片/TCO/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/TCO/减反射膜;(2)基片/TCO/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/TCO/减反射膜;(3)基片/TCO/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/TCO/减反射膜;(4)基片/TCO/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/TCO/减反射膜;(5)基片/TCO/n层/i层/p层/中间反射层/n层/i层/p层/TCO/减反射膜;(6)基片/TCO/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/TCO/减反射膜;(7)基片/TCO/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/TCO/减反射膜;(8)基片/TCO/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/TCO/减反射膜;(9)基片/TCO/n层/p层/中间反射层/n层/p层/中间反射层/n层/p层/TCO/减反射膜;(10)基片/TCO/n层/p层/中间反射层/n层/p层/TCO/减反射膜;其中,所述p层、i层、n层均是选自μc-Si1-xGex、A-Si1-xGex、μc-SiC、A-SiC、μc-Si、A-Si半导体材料中的一种,TCO层与相邻的中间反射层之间以及相邻两中间反射层之间的膜层为一结,每结中各膜层所用半导体材料相同并组成pin结或pn结;0≤x≤1;“/”表示两层之间的界面。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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