[发明专利]一种砷化镓多晶无液封合成方法和装置无效
申请号: | 200910000937.8 | 申请日: | 2009-01-23 |
公开(公告)号: | CN101498047A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 周春锋;刘晏凤;杨连生 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十六研究所;天津晶明电子材料有限责任公司 |
主分类号: | C30B29/42 | 分类号: | C30B29/42 |
代理公司: | 信息产业部电子专利中心 | 代理人: | 梁 军 |
地址: | 300220*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种砷化镓多晶无液封合成方法和装置,该方法在无液封砷化镓多晶合成基础上,又经过了垂直布里奇曼法定向结晶,合成的圆柱形GaAs多晶不存在镓团和砷团,且分布及不均匀,可以直接满足垂直布里奇曼法或者垂直梯度冷凝法GaAs单晶生长的需求。该装置包括合成炉体和石墨系统,石墨系统包括保温单元、加热单元、合成单元和使合成单元升降转动的运动单元。采用本发明的方法合成的GaAs多晶化学计量比达到了水平布里奇曼法的水平,避免了Si杂质的沾污,本发明所述合成方法与氧化硼液封合成法相比避免了硼杂质沾污。 | ||
搜索关键词: | 一种 砷化镓 多晶 无液封 合成 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种砷化镓多晶无液封合成方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一、在氮化硼坩埚中装入镓和砷,将氮化硼坩埚装入石墨坩埚中,然后依次盖上石墨坩埚盖和石墨保温罩;步骤二、关闭合成炉体,抽真空直至合成炉体内的压强为10Pa以下,关闭真空阀门;步骤三、缓慢充入惰性气体,直到合成炉体内的压强为2.8~3.2MPa时,开炉体冷却循环水,然后经过三次阶段性升温达到化料温度;步骤四、在化料温度保持恒温40分钟,炉体气压慢慢降压到2.0MPa时,旋转下降石墨坩埚,实现砷化镓熔体从下向上结晶;步骤五、合成炉体经过两次阶段性降温到达900℃时关断加热器,同时停止旋转石墨坩埚,使合成炉体自然降温。
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