[实用新型]加工研磨硅片载体的专用模具无效
申请号: | 200820085955.1 | 申请日: | 2008-04-23 |
公开(公告)号: | CN201183095Y | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
发明(设计)人: | 胡林宝 | 申请(专利权)人: | 胡林宝 |
主分类号: | B21D37/10 | 分类号: | B21D37/10;B21D53/26;B24B29/00;H01L21/304 |
代理公司: | 杭州裕阳专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 应圣义 |
地址: | 324300浙江省开*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 一种加工研磨硅片载体的专用模具,它包括一个“口”字型的竖直模架,以及上模板、下模板和一底板,上模板的工作面上设有一段弧状排列的上齿型模,下模板的工作面上设有一段弧状排列的下齿型模;所述上模板贴置在模架顶边的下面,模架顶边的两侧分别设有一个导向孔,两根模架侧边为导柱杆,模架顶边经导向孔套置在导柱杆上,模架底边呈平面状向前延伸形成底板,在所述底板的一侧设有定位销,定位销位于下齿型模齿型延伸的节圆上;在所述节圆中心的底板上设有一中心定位杆。该模具采用三点定位、旋转式分段剪裁,不但能消除累积误差,有效降低操作要求,还有利于进行标准化加工作业,利用一台设备就能加工制作任意直径大小的载体。 | ||
搜索关键词: | 加工 研磨 硅片 载体 专用 模具 | ||
【主权项】:
1、一种加工研磨硅片载体的专用模具,其特征是:包括一个“口”字型的竖直模架,以及上模板(23)、下模板(50)和一底板(30),上模板(23)的工作面上设有一段弧状排列的上齿型模,下模板(50)的工作面上设有一段弧状排列的下齿型模(51);所述上模板(23)贴置在模架顶边(20)的下面,模架顶边(20)的两侧分别设有一个导向孔(41),两根模架侧边为导柱杆(40),模架顶边(20)经导向孔(41)套置在导柱杆(40)上,模架底边呈平面状向前延伸形成底板(30),下模板(50)安装在上模板(23)的正下方的底板(30)上;在所述底板(30)的一侧设有定位销(60),定位销(60)位于下齿型模(51)齿型延伸的节圆上;在所述节圆中心的底板(30)上设有一中心定位杆(70)。
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