[发明专利]制备纳米级金属单质钴的一步电化学还原法无效

专利信息
申请号: 200810244779.6 申请日: 2008-12-04
公开(公告)号: CN101451254A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 张大伟;陈静娟;杨晨戈;戴俊;王百年;罗梅;陈敏 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C25C5/02 分类号: C25C5/02;C25C7/00;C25C1/08
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 代理人: 何梅生
地址: 230009*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 制备纳米级金属单质钴的一步电化学还原法,其特征是将负极材料金属锂、正极材料微米级钴氧化物、电解液以及隔离膜组装成具有锂电池结构的电化学反应器,在锂电池的电化学放电过程中,通过金属锂对钴氧化物的还原得到金属钴的纳米级粒子,经分离获得纳米级钴粒子。本发明是一种方法简单、实施方便、易于操作的制备纳米级金属单质钴的方法,能够高效地获得分散性好、粒度分布窄、形貌均匀的钴纳米粒子。
搜索关键词: 制备 纳米 金属 单质 一步 电化学 还原法
【主权项】:
1、制备纳米级金属单质钴的一步电化学还原法,其特征是将负极片、正极片、电解液以及隔离膜组装成具有锂电池结构的电化学反应器;所述负极片中负极材料为金属锂、所述正极片中的正极材料为微米级钴氧化物;在所述电化学反应器的电化学放电过程中,通过金属锂对钴氧化物的还原得到金属钴的纳米级粒子,经分离获得纳米级钴粒子。
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