[发明专利]使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法无效
| 申请号： | 200810214913.8 | 申请日： | 2004-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN101344732A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 阿诺·布里克;温斯莱奥·A.·切布海尔;贾森·D·亨特斯坦;安德鲁·W·麦卡罗;所罗门·S·沃瑟曼 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于在目标物上写入图案的无掩模光刻系统。该系统可包括照明系统，目标物，空间光调制器(SLM)，和控制器。在目标物接收光之前，SLM可使来自照明系统的光形成图案。SLM可包括前组SLM和后组SLM。前和后组中的SLM根据目标物的扫描方向而改变。控制器可根据光脉冲期间信息，有关SLM物理布局信息，和目标物扫描速度其中至少之一，来发送控制信号。通过使用多种方法，该系统还可校正剂量的非均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 空间 调制器 阵列 无掩模 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于在无掩模光刻中控制剂量的方法，包括如下步骤：测量来自SLM的一系列脉冲中每个脉冲中所传递的剂量；基于测量步骤计算剂量差错；基于剂量差错计算校正覆盖剂量；和利用最后一组SLM来应用校正覆盖剂量。
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