[发明专利]化学机械研磨的组成物有效
申请号: | 200810097832.4 | 申请日: | 2008-05-16 |
公开(公告)号: | CN101580700A | 公开(公告)日: | 2009-11-18 |
发明(设计)人: | 张松源;陆明辉;何明彻 | 申请(专利权)人: | 盟智科技股份有限公司 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14;C07D235/00;C07D249/18;C07C229/00 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 台湾省桃*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本发明化学机械研磨的组成物,该抑制剂组成物至少包含有咪唑啉类化合物或三唑类化合物或其组合物,以及肌胺酸及其盐类化合物或其组合物,该抑制剂组成物应用于化学机械研磨中,可以在维持金属层的高研磨去除率的同时,兼具抑制金属蚀刻的特性,能够减少碟陷与磨蚀等研磨缺陷。 | ||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 组成 | ||
【主权项】:
1、一种用于化学机械研磨的抑制剂组成物,其特征在于,该抑制剂组成物至少包含有:咪唑啉类化合物或三唑类化合物或其组合物;以及肌胺酸及其盐类化合物或其组合物。
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