[发明专利]光敏性糊剂组合物及用其形成等离子体显示屏障壁的方法无效

专利信息
申请号: 200810090144.5 申请日: 2008-04-07
公开(公告)号: CN101281371A 公开(公告)日: 2008-10-08
发明(设计)人: 朴赞硕;高俊;黄建镐;郑熙俊;郑镛埈;金泰成 申请(专利权)人: 东进世美肯株式会社
主分类号: G03F7/075 分类号: G03F7/075;G03F7/004;G03F7/00;H01J9/02;H01J9/24
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及等离子体显示屏障壁形成用光敏性糊剂组合物和等离子体显示屏障壁形成方法。本发明提供如下PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物,该组合物适合于利用紫外线照射的光刻法,并且其不仅能够利用一次光刻工序形成厚障壁并使障壁不损坏且具有优异的烧制外形,而且能够实现高强度和高分辨率,并确保烧制裕度,从而能够形成安全的障壁图案。本发明特别是涉及含有无机成分以及光敏性有机成分的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物,所述无机成分含有玻璃粉末和填料,所述组合物的特征在于,所述填料包含至少70重量%的α-石英。
搜索关键词: 光敏 性糊剂 组合 形成 等离子体 显示 屏障 方法
【主权项】:
1. 一种PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物,该组合物含有a)无机成分以及b)光敏性有机成分,所述无机成分含有i)玻璃粉末和ii)填料,所述组合物的特征在于,所述填料含有至少70重量%的α-石英。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东进世美肯株式会社,未经东进世美肯株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810090144.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top