[发明专利]图案化垂直磁记录介质及使用该介质的磁记录系统无效
| 申请号： | 200810090011.8 | 申请日： | 2008-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101312050A | 公开（公告）日： | 2008-11-26 |
| 发明（设计）人： | 安德烈亚斯·K·伯杰;埃里克·E·富勒顿;奥拉夫·赫尔维格;拜伦·H·伦格斯菲尔德三世;欧内斯托·E·马里内罗 | 申请（专利权）人： | 日立环球储存科技荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/74 | 分类号： | G11B5/74;G11B5/09 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张波 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了图案化垂直磁记录介质及使用该介质的磁记录系统。该介质具有离散的磁岛，每个岛具有包括两个交换耦合的铁磁层的记录层(RL)结构。RL结构可为“交换弹簧”RL结构，其中有时称为交换弹簧层(ESL)的上部铁磁层(MAG2)铁磁耦合到有时称为介质层(ML)的下部铁磁层(MAG1)。RL结构也可包括MAG1和MAG2间的耦合层(CL)，其允许铁磁耦合。MAG1和MAG2间的层间交换耦合可通过调节CL的材料和厚度而部分地优化。RL结构也可包括与MAG1和MAG2至少之一接触的铁磁横向耦合层(LCL)以调整其所接触的铁磁层(MAG2或MAG1)中的晶粒间交换耦合。LCL中的铁磁合金具有比其所接触的铁磁合金(MAG2或MAG1)大得多的晶粒间交换耦合。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 垂直 记录 介质 使用 系统 | ||
【主权项】：
1.一种图案化磁记录介质，包括：基底；该基底上的且由基本上非磁的区域隔开的多个离散的磁岛，每个磁岛具有磁记录层结构，该磁记录层结构包括具有平面外易磁化轴的第一铁磁层和具有平面外易磁化轴的第二铁磁层，该第二铁磁层与该第一铁磁层铁磁交换耦合。
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