[发明专利]偏振光薄膜的制造方法以及偏振光片的制造方法有效
| 申请号： | 200810090001.4 | 申请日： | 2008-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN101276013A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 林成年;武藤清;难波明生;幡中伸行 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/10;C08J5/18;B29C55/04;B29K29/00;B29L11/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 熊玉兰;孙秀武 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 偏振光薄膜的制造方法，使聚乙烯醇系树脂的原料薄膜(1)按顺序通过在膨润槽(3)中的膨润处理工序、在水浸渍槽(4)中的水浸渍处理工序、在染色槽(5)中的染色处理工序以及在硼酸槽(6)中的硼酸处理工序连续进行处理，并且在染色槽(5)以及硼酸槽(6)中的至少一个工序中进行单轴拉伸制造偏振光薄膜(9)时，在水浸渍槽(4)中相对于机械方向处理聚乙烯醇系树脂薄膜，使拉伸倍率达到1倍以上并且在1.05倍以下。水浸渍槽(4)的浴，优选基本上没有溶解成分的纯水。在所得偏振光薄膜(9)的至少一面贴合透明保护薄膜制造偏振光片。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振光 薄膜 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
1.偏振光薄膜的制造方法，其是使聚乙烯醇系树脂薄膜按顺序通过膨润处理工序、水浸渍处理工序、染色处理工序以及硼酸处理工序连续进行处理，并且在染色处理工序以及硼酸处理工序中的至少一个工序中进行单轴拉伸制造偏振光薄膜的方法，其中，在前述水浸渍处理工序中相对于机械方向处理前述聚乙烯醇系树脂薄膜，使拉伸倍率达到1倍以上并且在1.05倍以下。
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