[发明专利]镀钯及镀钯合金之高速方法有效
| 申请号： | 200810086859.3 | 申请日： | 2008-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN101348928A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | W·张－伯格林格;M·克劳斯;J·格比;F·J·施瓦格 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/50 | 分类号： | C25D3/50 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明揭示一种镀钯及镀钯合金之高速方法。具体涉及沉积钯及钯合金之高速方法。该高速方法使用水性、具有减少槽中的游离氨之氨基槽。该高速方法可应用在多种基材上，例如电子装置和珠宝上沉积钯和钯合金覆层。 | ||
| 搜索关键词： | 合金 高速 方法 | ||
【主权项】：
1.一种方法，其包括：a)制备一组成物，其基本上系由一或多种钯来源，铵离子和尿素所组成；b)令一基材接触该组成物；且c)产生一至少10安培/平方公分的电流密度以便在该基材上沉积钯。
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