[发明专利]液晶薄膜的制造方法以及用于该方法的摩擦装置无效
申请号: | 200810086533.0 | 申请日: | 2008-03-14 |
公开(公告)号: | CN101266364A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | 清原稔和;那须元纪;宫原孝文 | 申请(专利权)人: | 新日石液晶薄膜株式会社 |
主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈昕 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种液晶薄膜的制造方法,其包括对取向基板薄膜(20)的表面进行摩擦处理的摩擦工序;和将液晶聚合物涂敷在进行了摩擦处理的取向基板薄膜(20)上而在取向基板薄膜(20)上得到液晶层(23)的液晶层的形成工序,摩擦工序包括使挤压构件(5)接触在表面侧具有摩擦布(2)的摩擦辊(1)的摩擦布(2),使付着在摩擦布(2)的粉尘从摩擦布(2)放出的粉尘放出工序、和吸引所放出的粉尘的粉尘吸引工序。 | ||
搜索关键词: | 液晶 薄膜 制造 方法 以及 用于 摩擦 装置 | ||
【主权项】:
1.一种液晶薄膜的制造方法,其特征在于,包括:对取向基板薄膜的表面进行摩擦处理的摩擦工序;和将液晶聚合物涂敷在进行了摩擦处理的上述取向基板薄膜上,在上述取向基板薄膜上得到液晶层的形成液晶层的工序,所述摩擦工序包括:使挤压构件接触在表面侧具有摩擦布的摩擦辊的上述摩擦布,使付着在上述摩擦布的粉尘从上述摩擦布放出的粉尘放出工序、和吸引所放出的粉尘的粉尘吸引工序。
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