[发明专利]钛/锆膜形成用涂布剂、钛/锆膜形成方法及用钛/锆膜涂覆的金属基材无效
| 申请号： | 200810080859.2 | 申请日： | 2008-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN101265376A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 永井彰典;矶崎理 | 申请（专利权）人： | 关西涂料株式会社 |
| 主分类号： | C09D7/12 | 分类号： | C09D7/12;C09D5/00;C09D163/00;C09D161/06;C09D133/02;C09D175/04;C09D129/04;C09D177/00;C09D101/02;C23F15/00;C01G23/00;C01G25/00;B05D7/14 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 樊卫民;郭国清 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种含钛/锆的膜形成用涂布剂，其含有使(A)钛化合物及(B)锆化合物与双氧水反应得到的含钛/锆水性溶液，其中，所述(A)钛化合物是选自水解性钛化合物、水解性钛化合物的低缩合物、氢氧化钛及氢氧化钛的低缩合物中的至少一种，所述(B)锆化合物是选自水解性锆化合物、水解性锆化合物的低缩合物、氢氧化锆及氢氧化锆的低缩合物中的至少一种。另外，本发明还提供一种钛/锆膜形成方法及形成了由该涂布剂构成的被膜的涂覆金属基材。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 用涂布剂 方法 锆膜涂覆 金属 基材 | ||
【主权项】：
1.一种钛/锆膜形成用涂布剂，其含有使(A)钛化合物及(B)锆化合物与双氧水反应而得到的含钛/锆水性溶液，其中，所述(A)钛化合物是选自水解性钛化合物、水解性钛化合物的低缩合物、氢氧化钛及氢氧化钛的低缩合物中的至少一种，所述(B)锆化合物是选自水解性锆化合物、水解性锆化合物的低缩合物、氢氧化锆及氢氧化锆的低缩合物中的至少一种。
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