[发明专利]一种薄片或超薄片标准具制作方法无效

专利信息
申请号: 200810071690.4 申请日: 2008-08-28
公开(公告)号: CN101349774A 公开(公告)日: 2009-01-21
发明(设计)人: 吴砺;凌吉武;邱英;陈卫民 申请(专利权)人: 福州高意通讯有限公司
主分类号: G02B5/28 分类号: G02B5/28;G02B1/10;B32B37/12
代理公司: 厦门市诚得知识产权代理事务所 代理人: 方惠春;黄国强
地址: 350000福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及激光制作领域,尤其涉及该领域的一种薄片或超薄片标准具的制作方法。本发明采用深化光胶方法将光学基片和另一镀有反射膜的光学基片深化光胶,将其中一基片抛光成薄片或超薄片;或将一光学基片镀膜后与另一薄片或超薄片深化光胶,构成两片式光学基片;再在光学基片薄片一面镀上反射膜,或在第三片光学基片上镀上反射膜与两片式基片薄片一面深化光胶,从而制成薄片式或超薄片式标准具。故,本发明能够解决采用传统方式不易制作或无法制作微米数量级厚的标准具的技术难题。
搜索关键词: 一种 薄片 标准 制作方法
【主权项】:
1、一种薄片或超薄片标准具制作方法,其特征在于:包含如下步骤:步骤11,第一光学基片(10)一表面镀第一部分反射膜(101),第二光学基片(20)一表面镀光胶膜(201);步骤12,通过深化光胶方式将镀有第一部分反射膜(101)的第一光学基片(10)表面与镀有光胶膜(201)的第二光学基片(20)表面粘结成为一体;步骤13,将第二光学基片(20)通过光学加工成薄片;步骤14,将第二光学基片(20)非镀有光胶膜面镀第二部分反射膜(301);或者步骤14可以为:步骤151,第三光学基片(30)一表面镀第二部分反射膜(301);步骤152,通过深化光胶方式将镀有第二部分反射膜(301)的第三光学基片(30)与加工成薄片的第二光学基片(20)粘结成为一体。
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