[发明专利]一种宽工作范围半导体泵浦的单纵模倍频激光器有效
申请号: | 200810071283.3 | 申请日: | 2008-06-20 |
公开(公告)号: | CN101304153A | 公开(公告)日: | 2008-11-12 |
发明(设计)人: | 吴砺;凌吉武;顾世杰;马英俊;彭永进 | 申请(专利权)人: | 福州高意通讯有限公司 |
主分类号: | H01S3/109 | 分类号: | H01S3/109;H01S3/098;H01S3/06;H01S3/16;H01S3/08;H01S3/00 |
代理公司: | 厦门市诚得知识产权代理事务所 | 代理人: | 方惠春;黄国强 |
地址: | 350000福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种宽工作范围半导体泵浦的单纵模倍频激光器,其包括泵浦源,激光增益介质和谐振腔,所述谐振腔为由前、后腔镜,低级次波片及偏振起偏器构成的扭摆模腔,其特征在于:所述低级次波片由光轴相互垂直的倍频晶体构成。本发明利用扭摆模腔结构实现微片式腔内倍频单纵模输出:使光轴相互垂直的倍频晶体成为零级全波片、二分之一波片或其它低级次波片,所述低级次波片设在两片四分之一波片之间或之外,这样就不影响四分之一波片消除增益介质的空间烧孔效应,又由于低级次波片温度带宽较宽,从而实现宽温度范围单纵模倍频输出。 | ||
搜索关键词: | 一种 工作范围 半导体 单纵模 倍频 激光器 | ||
【主权项】:
1、一种宽工作范围半导体泵浦的单纵模倍频激光器,其包括泵浦源,激光增益介质和谐振腔,所述谐振腔为由前、后腔镜,低级次波片及偏振起偏器构成的扭摆模腔,其特征在于:所述低级次波片由光轴相互垂直的倍频晶体构成。
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