[发明专利]PVDF－HFP基复合多孔聚合物隔膜及其制备方法

摘要

PVDF－HFP基复合多孔聚合物隔膜及其制备方法，它涉及一种复合多孔聚合物隔膜及其制备方法。它解决了现有PVDF－HFP基复合多孔聚合物隔膜的界面相容性不好、离子迁移数较低、超细粉填料易团聚并且加入量有限的问题。产品是由PVDF－HFP、六偏磷酸钠和超细粉填料制成。制备方法如下：一、将PVDF－HFP溶解于有机溶剂中；二、将六偏磷酸钠、超细粉填料和蒸馏水混合再搅匀；三、将步骤二得到的混合液逐滴加入到步骤一得到的混合液中，搅匀，浇模后干燥成型即可。本发明超细粉填料用量占原料总重41.7％以上，超细粉填料在聚合物基质中分散均匀，聚合物电解质膜的机械强度增强，界面性能良好，加工性能优越。本发明产品的电导率高，其Li⁺离子迁移数高达0.85，其电化学稳定窗口高达5.8V。

主权项

1、一种PVDF-HFP基复合多孔聚合物隔膜，其特征在于PVDF-HFP基复合多孔聚合物隔膜是由聚(偏氟乙烯-六氟丙烯)、六偏磷酸钠和超细粉填料制成；其中六偏磷酸钠与聚(偏氟乙烯-六氟丙烯)的质量比为0.2～0.4∶1，超细粉填料与六偏磷酸钠的质量比为0.5～1∶1。