[发明专利]一种水溶性纳米化喜树碱粉体的超临界反溶剂制备方法无效
| 申请号： | 200810064228.1 | 申请日： | 2008-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN101264061A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 祖元刚;赵修华;祖柏实;杨磊;李庆勇;朱磊;祖纯林;张宝友 | 申请（专利权）人： | 东北林业大学;祖元刚 |
| 主分类号： | A61K9/14 | 分类号： | A61K9/14;A61K31/4745;A61P35/00;A61J3/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150040黑龙江省*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种水溶性纳米化喜树碱粉体的超临界反溶剂制备方法，其特征在于：启动CO2高压泵，将CO2以5～20L/h的流速注入高压结晶釜，使高压结晶釜的温度稳定在32℃～75℃，压力稳定在7.5～25MPa，达到超临界状态；将喜树碱浓度为1～5mg/ml的DMSO或DMF溶液，通过孔径为20～1000um的喷嘴以1～30ml/min的流速喷入高压结晶釜内，析出平均粒径为100～800nm的喜树碱粉体，CO2在高压结晶釜内继续运行至少半小时以干燥所形成纳米化喜树碱粉体；溶剂DMSO或DMF与CO2在压力为5～6.5MPa和温度为25～50℃的分离釜内分离，DMSO或DMF回收后再利用，CO2气体直接循环使用。本方法所得纳米化喜树碱粉体表面光滑，粒度分布均匀，水溶性好，无溶剂残留，生产工艺无污染，成本低，得率高，易产业化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 水溶性 纳米 喜树碱 临界 溶剂 制备 方法 | ||
【主权项】：
1一种水溶性纳米化喜树碱粉体的超临界反溶剂制备方法，包括以下步骤：启动CO2高压泵，将CO2以恒定的流速注入高压结晶釜，使高压结晶釜的温度和压力稳定在超临界状态之上，用高压柱塞泵将喜树碱的DMSO或DMF溶液，通过喷嘴以恒定的流速喷入高压结晶釜内，析出平均粒径为100～800nm的喜树碱粉体，CO2在高压结晶釜内继续运行至少半小时以干燥所形成纳米化喜树碱粉体；溶剂DMSO或DMF与CO2在分离釜内分离，DMSO或DMF回收后再利用，CO2气体直接循环使用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东北林业大学;祖元刚，未经东北林业大学;祖元刚许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200810064228.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
