[发明专利]一种阴离子电池隔膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 200810035159.1 申请日: 2008-03-25
公开(公告)号: CN101252176A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 杨梅 申请(专利权)人: 深圳市富易达电子科技有限公司
主分类号: H01M2/16 分类号: H01M2/16;C08J5/22
代理公司: 上海金盛协力知识产权代理有限公司 代理人: 解文霞
地址: 518078广东省深圳市高*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明属于阴离子电池隔膜的制备方法技术领域。本发明所述的阴离子电池隔膜的制备方法,其步骤包括:将含有甲氧基的苯环与乙烯或丙烯接枝共聚;将上述共聚物与路易斯酸、卤代酞基化合物按摩尔比1.5∶0.5~1∶0.5~1混合,溶于溶剂中搅拌;将步骤b的反应产物先溶解再沉淀;将上述产物干燥,然后在溶剂中充分溶解再静置脱泡,将所得铸膜液在基体上刮膜并在室温下自然成膜;将上述制得的膜于在胺水溶液中胺化,取出干燥。本发明方法从操作角度来说具有简便、迅速和安全的优点;从性能角度来说,制得的膜具有均相性能稳定、离子交换容量高、抗污染性强特点;并可系列化开发以满足不同应用领域的需要。
搜索关键词: 一种 阴离子 电池 隔膜 制备 方法
【主权项】:
1、一种阴离子电池隔膜的制备方法,其步骤包括a、将含有甲氧基的苯环与乙烯或丙烯接枝共聚;b、将上述共聚物与路易斯酸、卤代酞基化合物按摩尔比1.5∶0.5~1∶0.5~1混合,溶于溶剂中搅拌;c、将步骤b的反应产物先溶解再沉淀;d、将上述产物干燥,然后在溶剂中充分溶解再静置脱泡,将所得铸膜液在基体上刮膜并在室温下自然成膜;e、将上述制得的膜于在胺水溶液中胺化,取出干燥。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市富易达电子科技有限公司,未经深圳市富易达电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200810035159.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top