[发明专利]计算机硬盘基板研磨用清洗液无效
| 申请号： | 200810011077.3 | 申请日： | 2008-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN101260346A | 公开（公告）日： | 2008-09-10 |
| 发明（设计）人： | 侯军 | 申请（专利权）人： | 大连三达奥克化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/36 | 分类号： | C11D7/36;C11D1/00;C11D7/26;C11D7/32 |
| 代理公司： | 大连非凡专利事务所 | 代理人： | 闪红霞 |
| 地址： | 116023辽宁省大连市高新技术园*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于原料及重量百分比如下：有机酸5％～20％、表面活性剂2％～10％、渗透剂1％～10％、螯合剂0.1％～5％、去离子水余量。本发明原料来源广泛，制备方法简单、成本低，对环境无污染，各组分协同作用，可彻底清洗污染物，完全能够替代现有成本高、污染严重的清洗液。 | ||
| 搜索关键词： | 计算机 硬盘 研磨 清洗 | ||
【主权项】：
1.一种计算机硬盘基板研磨用清洗液，其特征在于原料及重量百分比如下：有机酸 5％～20％表面活性剂 2％～10％渗透剂 1％～10％螯合剂 0.1％～5％去离子水 余量。
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