[发明专利]X射线分析设备和X射线分析方法有效

专利信息
申请号: 200810003796.0 申请日: 2008-01-23
公开(公告)号: CN101231256A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 深井隆行;的场吉毅;长谷川清 申请(专利权)人: 精工电子纳米科技有限公司
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223;G21K3/00;G21K5/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张雪梅;刘宗杰
地址: 日本千叶*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及X射线分析设备和X射线分析方法,其通过使X射线源稳定地工作而稳定地执行定量分析。X射线分析设备包括:X射线管状球管,将初级X射线照射到样品;初级X射线调整机构,能够调整初级X射线的强度;X射线探测器,探测从样品辐射的特征X射线和散射X射线,由此输出包括特征X射线和散射X射线的能量信息的信号;分析器,分析上述信号;以及入射X射线调整机构,置于样品和X射线探测器之间,并能够调整进入X射线探测器的特征X射线和散射X射线的总强度。
搜索关键词: 射线 分析 设备 方法
【主权项】:
1.一种X射线分析设备,包含:辐射源,将辐射线照射到样品;辐射线调整机构,能够调整所述辐射线的强度;X射线探测器,探测从所述样品辐射的特征X射线和散射X射线,并输出包括所述特征X射线和散射X射线的能量信息的信号;分析器,分析所述信号;以及入射X射线调整机构,置于所述样品和所述X射线探测器之间,并调整进入所述X射线探测器的所述特征X射线和散射X射线的总强度。
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