[实用新型]视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机无效

专利信息
申请号: 200720155522.4 申请日: 2007-07-05
公开(公告)号: CN201132849Y 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 吴先映;李强;张荟星;张孝吉;彭建华;刘安东 申请(专利权)人: 北京师范大学
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/14
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100875北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机,它利用视线外磁过滤等离子体沉积源进行材料表面镀膜,实现多层膜镀膜。其特征在于:至少两台视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源以一定的夹角安装在一台真空镀膜室同一平面上,镀膜工件台可以灵活转动与等离子体沉积源工作状态配合,并在工件台上加上适当的负偏压,让不同等离子体源顺序或交替工作,实现多层镀膜功能。采用视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源,沉积在基体上的基本都是离子,其能量可以通过工件台负偏压方便地调节,从而方便地完成包括工件表面清洗、界面混合、镀膜等功能;通过工件台与等离子体沉积源正确配合,并使不同的等离子体沉积源顺序或交替工作,实现多层膜镀膜。如果通入反应气体,可以得到气体化合物多层膜。
搜索关键词: 视线 过滤 金属 蒸汽 真空 等离子体 沉积 多层 镀膜
【主权项】:
1.一种视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积多层膜镀膜机。其特征在于至少两台视线外磁过滤金属蒸汽真空弧等离子体沉积源以一定的夹角安装在一台真空镀膜室同一平面上,镀膜工件台可以灵活转动与等离子体沉积源工作状态配合,并在工件台上加上适当的负偏压,不同的等离子体源顺序或交替工作,实现多层镀膜功能。
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