[发明专利]半导体存储器件及其修复方法有效

专利信息
申请号: 200710198999.5 申请日: 2007-12-11
公开(公告)号: CN101202116A 公开(公告)日: 2008-06-18
发明(设计)人: 李奉镕;李宪奎;金光洙;权相烈 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11C29/44 分类号: G11C29/44
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 黄启行;穆德骏
地址: 韩国京畿道水*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体存储器件,包括主单元阵列区,在主单元阵列区的一侧形成的第一冗余单元阵列区和第一虚拟单元阵列区,以及在主单元阵列区的另一侧形成的第二冗余单元阵列区和第二虚拟单元阵列区。该第一冗余单元阵列区包括第一冗余位线,以及该第一虚拟单元阵列区包括第一虚拟位线。该第二冗余单元阵列区包括第二冗余位线,以及该第二虚拟单元阵列区包括第二虚拟位线。第一和第二冗余单元阵列区被布置为比第一和第二虚拟单元阵列区更靠近主单元阵列区。
搜索关键词: 半导体 存储 器件 及其 修复 方法
【主权项】:
1.一种半导体存储器件,包括:包括主位线的主单元阵列区;包括第一冗余位线的第一冗余单元阵列区和包括第一虚拟位线的第一虚拟单元阵列区,该第一冗余单元阵列区和该第一虚拟单元阵列区形成在所述主单元阵列区的一侧;以及包括第二冗余位线的第二冗余单元阵列区和包括第二虚拟位线的第二虚拟单元阵列区,该第二冗余单元阵列区和该第二虚拟单元阵列区形成在所述主单元阵列区的另一侧,其中,该第一和第二冗余单元阵列区被布置为比第一和第二虚拟单元阵列区更靠近所述主单元阵列区。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710198999.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top