[发明专利]清除气体供应系统及气体清除方法无效
| 申请号： | 200710161973.3 | 申请日： | 2007-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN101398127A | 公开（公告）日： | 2009-04-01 |
| 发明（设计）人： | 何照铭;魏涌洲 | 申请（专利权）人： | 力晶半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | F17D1/04 | 分类号： | F17D1/04;B08B9/032 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种清除气体供应系统及气体清除方法，该清除气体供应系统适于连接至工艺气体供应系统。此清除气体供应系统包括气体供应源、缓冲槽、第一气体输送管线以及控制器。气体供应源用于提供清除气体。缓冲槽连接气体供应源，用以改变通过缓冲槽的清除气体的温度。第一气体输送管线连接气体供应源与缓冲槽。控制器连接缓冲槽，用以调控缓冲槽的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 清除 气体 供应 系统 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种清除气体供应系统，适于连接至工艺气体供应系统，包括：气体供应源，用以提供清除气体；缓冲槽，连接该气体供应源，用以改变通过该缓冲槽的该清除气体的温度；第一气体输送管线，连接该气体供应源与该缓冲槽；以及控制器，连接该缓冲槽，用以调控该缓冲槽的温度。
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