[发明专利]应力层结构有效
| 申请号： | 200710102832.4 | 申请日： | 2007-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN101304008A | 公开（公告）日： | 2008-11-12 |
| 发明（设计）人： | 杨进盛;刘志建 | 申请（专利权）人： | 联华电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/00 | 分类号： | H01L23/00;H01L27/02;H01L27/088;H01L27/092 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波 |
| 地址： | 中国台湾新竹*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种应力层结构，配置于基底上，基底包括元件区与非元件区，元件区包括多个有源区与非有源区，应力层结构包括多个应力图案、至少一条分隔线及至少一个伪应力图案。应力图案分别配置于各个有源区的基底上。分隔线暴露出部分基底，且分隔相邻两个应力图案。伪应力图案配置于分隔线中的基底上。 | ||
| 搜索关键词： | 应力 结构 | ||
【主权项】：
1.一种应力层结构，配置于基底上，该基底包括元件区与非元件区，该元件区包括多个有源区与一非有源区，该应力层结构包括：多个应力图案，分别配置于各该有源区的该基底上；至少一分隔线，暴露出部分该基底，且分隔相邻两个应力图案；以及至少一伪应力图案，配置于该至少一分隔线中的该基底上。
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