[发明专利]防护薄膜组件及防护薄膜组件剥离装置有效
申请号: | 200710102553.8 | 申请日: | 2007-05-14 |
公开(公告)号: | CN101075088A | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
发明(设计)人: | 关原一敏 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14;B29C41/00;B29C41/12 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陈小雯;李晓舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种防护薄膜框架,在贴附到光掩模之后,可容易地进行剥离;进一步提供一种装置,可将光掩模所贴附的防护薄膜组件加以无损伤地剥离。本发明的防护薄膜组件的特征为:至少一边的边长在300mm以上的防护薄膜组件,且在贴附在光掩模2的状态中,在防护薄膜框架1的外侧全周80%以上的区域,光掩模2及防护薄膜框架1二者间设有宽2mm以上、高0.5mm以上的间隙。本发明的防护薄膜组件剥离装置的特征为:包含:剥离具7,下部具有平板状部15;及升降机构12,将该剥离具7保持与光掩模2平行的状态下,而往上方升高。并且,通过把剥离具7的平板状部15加以插进防护薄膜框架1及光掩模2两者的间隙,以将光掩模2及防护薄膜组件二者分开。 | ||
搜索关键词: | 防护 薄膜 组件 剥离 装置 | ||
【主权项】:
1.一种防护薄膜组件,其至少一边的边长在300mm以上,其特征为:于贴附在光掩模的状态中,在防护薄膜框架的外侧全周的80%以上的区域,于光掩模及防护薄膜框架二者间设有宽2mm以上、高0.5mm以上的间隙。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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