[发明专利]抛光剂无效

专利信息
申请号: 200710092346.9 申请日: 2007-02-25
公开(公告)号: CN101029208A 公开(公告)日: 2007-09-05
发明(设计)人: G·海伊;A·阿格希纳 申请(专利权)人: H.C.施塔克公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02;C09G1/18;H01L21/304
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 庞立志;李连涛
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及葡糖酸盐在半导体晶片制备中的用途,优选在制备方法中抛光半导体晶片中的用途,而且涉及一种抛光剂,所述抛光剂基于研磨材料和/或胶体以及二琥珀酸/盐或者甲基甘氨酸二乙酸(MGDA)和葡糖酸盐的混合物。
搜索关键词: 抛光
【主权项】:
1.一种抛光剂,含有如下组分:a)水,b)研磨材料和/或胶体,c)甲基甘氨酸二乙酸或者以下通式的二琥珀酸/盐其中R表示-(NH-CH2-CH2-)nNH-,X表示氢和/或碱金属n是0-2的整数,和d)葡糖酸的碱金属盐或者碱土金属盐。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于H.C.施塔克公司,未经H.C.施塔克公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710092346.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top