[发明专利]带有闩锁抑制的可调节晶体管衬底偏置发生电路有效

专利信息
申请号: 200710084732.3 申请日: 2007-02-28
公开(公告)号: CN101034882A 公开(公告)日: 2007-09-12
发明(设计)人: S·佩里塞地 申请(专利权)人: 阿尔特拉公司
主分类号: H03K3/00 分类号: H03K3/00;H03K3/037;H01L27/02
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 赵蓉民
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了带有衬底偏置或体偏置发生电路的集成电路。衬底偏置发生电路产生衬底偏置信号,其施加到衬底偏置路径上的晶体管。衬底偏置发生电路包括有源闩锁抑制电路,当潜在的闩锁状态检测出来时,其箝位衬底偏置路径处于安全电压。衬底偏置电路产生的衬底偏置信号电平是可调的。通过使用p沟道控制晶体管,衬底偏置发生电路调节衬底偏置路径上的衬底偏置电压。隔离晶体管耦合在p沟道控制晶体管和衬底偏置路径之间。在潜在闩锁状态期间,隔离晶体管被断开来隔离衬底偏置路径和地。控制电路调节衬底偏置电压,衬底偏置电压被施加到p沟道控制晶体管和隔离晶体管中的衬底端。
搜索关键词: 带有 抑制 调节 晶体管 衬底 偏置 发生 电路
【主权项】:
1.一种集成电路包括:p沟道金属氧化物半导体晶体管,每一个晶体管都带有衬底端,所述衬底端通过衬底偏置路径来接收衬底偏置信号;和可调节p沟道金属氧化物半导体衬底偏置发生电路,其提供所述衬底偏置信号到所述衬底偏置路径,其中所述可调节p沟道金属氧化物半导体衬底偏置发生电路包括:p沟道控制晶体管,其耦合在上升电源端和所述衬底偏置路径之间;和有源闩锁抑制电路,其连接到所述衬底偏置路径来防止所述p沟道金属氧化物半导体晶体管闩锁。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于阿尔特拉公司,未经阿尔特拉公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710084732.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top