[发明专利]具有研磨粒子的抛光材料及其制造方法无效
| 申请号： | 200710080011.5 | 申请日： | 2007-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN101239456A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 冯崇智;姚伊蓬;王良光;洪永璋;蔡超元 | 申请（专利权）人： | 三芳化学工业股份有限公司 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00;C09K3/14;B24D11/08;B24D18/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 刘国伟;徐永乐 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种具有研磨粒子的抛光材料及其制造方法。所述具有研磨粒子的抛光材料包括一基材、复数个研磨粒子及一高分子弹性体。所述基材具有复数条纤维，所述纤维界定复数个网格空间。所述研磨粒子分布于所述网格空间中。所述高分子弹性体覆盖所述基材及所述研磨粒子。藉此，所述研磨粒子可均匀地分布，在抛光过程中能达到均匀分布在研磨面上的效果。此外，所述基材可避免所述研磨粒子直接接触被抛光元件而刮伤所述被抛光元件，同时可提供扫除研磨残屑的功效。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 研磨 粒子 抛光 材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种具有研磨粒子的抛光材料，其包括：一基材，其具有复数条纤维，所述纤维界定复数个网格空间；复数个研磨粒子，其分布于所述网格空间中；及一高分子弹性体，其覆盖所述基材及所述研磨粒子。
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