[发明专利]高折射指数和高抗冲聚硫氨酯/脲材料、其制造方法及在光学领域中的用途有效
| 申请号： | 200710079150.6 | 申请日： | 2002-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN101016382A | 公开（公告）日： | 2007-08-15 |
| 发明（设计）人： | A·B·A·雅卢利;J·O·奥博多;Y·Y·图尔沙尼;P·江;F·O·阿迪勒;S·韦伯 | 申请（专利权）人： | 埃西勒国际通用光学公司 |
| 主分类号： | C08G75/02 | 分类号： | C08G75/02;C08G75/04;C08G75/14;G02B1/04 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种透明的、非弹性体的、高折射指数的和抗冲击的聚硫氨酯/脲材料，它包含如下组分的反应产物：a)至少一种数均分子量为100－3000g·mol－1的(α，ω)－二异(硫)氰酸酯脂环族或芳族预聚物，和b)至少一种伯二胺，其中胺官能团/异(硫)氰酸酯官能团的摩尔当量比为0.5－2、优选0.90－1.10，其中所述预聚物和二胺不含二硫(－S－S－)键，以及其中预聚物或二胺中的至少一种在其链中含有一个或多个S原子。 | ||
| 搜索关键词： | 折射 指数和 高抗冲聚硫氨酯 材料 制造 方法 光学 领域 中的 用途 | ||
【主权项】：
1.下式的聚硫化物HS-(CH2)2-S-(CH2)2S-(CH2)3-S-(CH2)3-S-(CH2)2-S-(CH2)2nSH其中n使得该聚硫化物的数均分子量为500-1500g·mol-1。
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