[发明专利]离子源组件有效
申请号: | 200710074322.0 | 申请日: | 2007-05-09 |
公开(公告)号: | CN101303955A | 公开(公告)日: | 2008-11-12 |
发明(设计)人: | 肖林;杨远超;潜力;刘亮;陈丕瑾;胡昭复;范守善 | 申请(专利权)人: | 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
主分类号: | H01J27/02 | 分类号: | H01J27/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100084北京市海淀区清华*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种离子源组件,该离子源组件包括冷阴极、栅极和离子加速极,冷阴极、栅极和离子加速极分别相向间隔设置,该栅极位于冷阴极与离子加速极之间,其中,冷阴极与栅极之间的距离小于或等于2毫米。该离子源组件的冷阴极采用碳纳米管作为场发射薄膜来发射电子,因此其具有低功耗、低放气率、发射电子稳定及抗离子轰击等优点。 | ||
搜索关键词: | 离子源 组件 | ||
【主权项】:
1.一种离子源组件,包括冷阴极、栅极和离子加速极,冷阴极、栅极和离子加速极相互绝缘地间隔设置,该栅极位于冷阴极与离子加速极之间,其特征在于:冷阴极与栅极之间的距离小于或等于2毫米。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司,未经清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710074322.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。