[发明专利]用于激光照排的微机电加工光栅光阀阵列及其方法无效
| 申请号： | 200710069426.2 | 申请日： | 2007-06-19 |
| 公开（公告）号： | CN101073935A | 公开（公告）日： | 2007-11-21 |
| 发明（设计）人： | 张巍;侯昌伦;杨国光 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | B41B21/08 | 分类号： | B41B21/08;G02B26/10;G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 | 代理人： | 张法高 |
| 地址： | 310027*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于激光照排的微机电加工光栅光阀阵列及其方法。光栅光阀阵列包括硅基底，在硅基底上设有二氧化硅层，在二氧化硅层上等间隔平行设有固定光栅条和可移动光栅条，可移动光栅条为中间悬空的桥梁状，可移动光栅条两端固定在二氧化硅上。方法是采用硅作为基底，上面再生长一层二氧化硅和硅牺牲层。在牺牲层上生长氮化硅、单晶硅或多晶硅作悬臂梁，利用离子刻蚀工艺刻蚀氮化硅、单晶硅或多晶硅，再用化学腐蚀的方法，掏空牺牲层，最后蒸镀金属铝、铂金或金属银作为反射面兼上电极。本发明作为激光扫描控制器件应用于激光照排系统中。该器件能够实现在激光照排系统上多路并行扫描，大大的提高了激光照排机的打片速度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 激光照排 微机 加工 光栅 阵列 及其 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于激光照排的微机电加工光栅光阀阵列，其特征在于包括硅基底(1)，在硅基底(1)上设有二氧化硅层(2)，在二氧化硅层(2)上等间隔平行设有固定光栅条(3)和可移动光栅条(4)，可移动光栅条(4)为中间悬空的桥梁状，可移动光栅条两端固定在二氧化硅(2)上。
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