[发明专利]单结铟镓氮太阳能电池结构及制作方法有效
申请号: | 200710062978.0 | 申请日: | 2007-01-24 |
公开(公告)号: | CN101232050A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 王晓亮;肖红领;杨翠柏;胡国新;冉学军;王翠梅;张小宾;李建平;李晋闽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/068;H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 100083北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种单结铟镓氮太阳能电池结构,其特征在于,其中包括:一衬底;一低温氮化镓成核层,该低温氮化镓成核层制作在衬底的上面,该成核层可增加衬底表面的成核密度;一非有意掺杂氮化镓缓冲层,该非有意掺杂氮化镓缓冲层制作在低温氮化镓成核层的上面,该缓冲层可减少外延层的缺陷密度,提高晶体质量;一n型掺杂InxGa1-xN层,该n型掺杂InxGa1-xN层制作在非有意掺杂高阻氮化镓缓冲层的上面,该n型掺杂层是InxGa1-xN p-n结的一部分;一p型掺杂InxGal-xN层,该p型掺杂InxGa1-xN层制作在n型掺杂InxGa1-xN层的上面,该p型掺杂层是InxGa1-xN p-n结的一部分。 | ||
搜索关键词: | 单结铟镓氮 太阳能电池 结构 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种单结铟镓氮太阳能电池结构,其特征在于,其中包括:一衬底;一低温氮化镓成核层,该低温氮化镓成核层制作在衬底的上面,该成核层可增加衬底表面的成核密度;一非有意掺杂氮化镓缓冲层,该非有意掺杂氮化镓缓冲层制作在低温氮化镓成核层的上面,该缓冲层可减少外延层的缺陷密度,提高晶体质量;一n型掺杂InxGa1-xN层,该n型掺杂InxGa1-xN层制作在非有意掺杂高阻氮化镓缓冲层的上面,该n型掺杂层是InxGa1-xN p-n结的一部分;一p型掺杂InxGa1-xN层,该p型掺杂InxGa1-xN层制作在n型掺杂InxGa1-xN层的上面,该p型掺杂层是InxGa1-xN p-n结的一部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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