[发明专利]光刻机工件台平衡定位系统有效
| 申请号： | 200710041226.6 | 申请日： | 2007-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN101101447A | 公开（公告）日： | 2008-01-09 |
| 发明（设计）人： | 王占祥;袁志扬;严天宏 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201203上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻机工件台平衡定位系统，其包括基础框架、长行程模块、平衡质量系统、Y向平衡块防漂系统、X向平衡块防漂系统、测量系统，其中长行程模块包括两个Y向长行程电机和两个X向长行程电机，长行程模块建立在平衡质量系统之上；所述平衡质量系统包括两个Y向平衡块和一个X向平衡块，平衡质量系统建立在基础框架上；Y向平衡块防漂系统安装在Y向平衡块与X向平衡块之间，用于补偿两个Y向平衡块相对X向平衡块的漂移；X向平衡块防漂系统安装在X向平衡块与基础框架之间，用于补偿X向平衡块在X、Y和Rz向的漂移；测量系统用于测量各长行程电机和平衡块的位置、速度和加速度。与现有技术相比，通过平衡块的平衡作用，可以提高系统的定位精度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 机工 平衡 定位 系统 | ||
【主权项】：
1.一种光刻机工件台平衡定位系统，其包括基础框架、长行程模块、平衡质量系统、Y向平衡块防漂系统、X向平衡块防漂系统、测量系统，其特征在于：长行程模块包括两个Y向长行程电机和两个X向长行程电机，长行程模块建立在平衡质量系统之上；所述平衡质量系统包括两个Y向平衡块和一个X向平衡块，平衡质量系统建立在基础框架上；Y向平衡块防漂系统安装在Y向平衡块与X向平衡块之间，用于补偿两个Y向平衡块相对X向平衡块的漂移；X向平衡块防漂系统安装在X向平衡块与基础框架之间，用于补偿X向平衡块在X、Y和Rz向的漂移；测量系统用于测量各长行程电机和平衡块的位置、速度和加速度。
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