[发明专利]确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法有效
| 申请号： | 200710036723.7 | 申请日： | 2007-01-23 |
| 公开（公告）号： | CN101231470A | 公开（公告）日： | 2008-07-30 |
| 发明（设计）人： | 杨金坡;刘伟 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027;H01L21/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法，该方法适用于曝光多个晶圆，其中，该方法包括如下步骤：a.在预先确定的区间内选择不同的透镜组系统装置受热变形修正参数；b.根据选定不同的透镜组系统装置受热变形修正参数获取对应的掩模板放大参数；c.选择随着曝光晶圆个数增加，掩模板放大参数变化最小的透镜组系统装置受热变形修正参数值为较佳透镜组系统装置受热变形修正参数。与现有技术相比，本发明可以更为精确获得较佳的透镜组系统装置受热变形修正参数。此外，不同类别的晶圆在不同的制程中都可以获取相应的透镜组系统装置受热变形修正参数。 | ||
| 搜索关键词： | 确定 透镜 系统 装置 受热 变形 修正 参数 方法 | ||
【主权项】：
1.一种确定透镜组系统装置受热变形修正参数的方法，该方法适用于曝光多个晶圆，其特征在于，该方法包括如下步骤：a.在预先确定的区间内选择不同的透镜组系统装置受热变形修正参数；b.根据选定不同的透镜组系统装置受热变形修正参数获取对应的掩模板放大参数；c.选择随着曝光晶圆个数增加，掩模板放大参数变化最小的透镜组系统装置受热变形修正参数值为较佳透镜组系统装置受热变形修正参数。
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