[发明专利]配向膜的配向装置无效
| 申请号： | 200710002665.6 | 申请日： | 2007-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN101000437A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 吴秉錞;张智杰;翁志雄;张宗远 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁挥;徐金国 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供配向膜的配向装置，包括：一承载平台，用以承载基板；一传送单元，与承载平台结合，以将基板朝一方向传送；一摩擦滚筒，位于承载平台的上方，以在基板通过时对基板进行滚动摩擦；一梳整单元，设置于该摩擦滚筒的一侧，与该摩擦滚筒接触；以及至少一真空吸取单元，位于承载平台的一侧边，以吸取滚动摩擦时产生的粒子。本发明配向装置的梳整单元，可将摩擦滚筒上的刷毛梳理整齐，且能避免基板上静电的产生，可对基板上配向膜作更佳的配向效果。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
1、一种配向膜的配向装置，包括：一承载平台，用以承载一基板；一传送单元，与该承载平台结合，朝一方向传送该基板；一摩擦滚筒，位于该承载平台的上方，以在该基板通过时对该基板进行滚动摩擦；一梳整单元，设置于该摩擦滚筒的一侧，与该摩擦滚筒接触；以及至少一真空吸取单元，位于该承载平台的一侧边，以吸取滚动摩擦时产生的粒子。
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