[发明专利]磁记录介质及其制造方法以及磁记录和再现装置无效
| 申请号： | 200680018703.0 | 申请日： | 2006-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN101185128A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 大泽弘;清水谦治 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/738;G11B5/851 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在能够进行较高记录密度的磁记录介质中，提供了具有较高顽磁性和较低噪声的磁记录介质及其制造方法，以及磁记录和再现装置。该磁记录介质的特征在于在非磁性衬底上按顺序至少叠置非磁性基底层、非磁性中间层、磁性层和保护层，并且该非磁性基底层的各层中的至少一个是由基于WX的合金或者基于MoX的合金(X＝Zr、Nb、Hf、Ta)形成的。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 及其 制造 方法 以及 再现 装置 | ||
【主权项】：
1.一种磁记录介质，包含非磁性衬底；并且在该衬底上，按照以下顺序至少提供了非磁性基底层、非磁性中间层、磁性层和保护层，其特征在于，构成该非磁性基底层的至少一个层是由基于WX的合金或者基于MoX的合金(X＝Zr、Nb、Hf或者Ta)构成的。
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