[发明专利]氧化镁单晶蒸镀材料及其制造方法无效
申请号: | 200680005522.4 | 申请日: | 2006-02-21 |
公开(公告)号: | CN101124347A | 公开(公告)日: | 2008-02-13 |
发明(设计)人: | 东淳生;川口祥史;国重正明 | 申请(专利权)人: | 达泰豪化学工业株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种单晶MgO蒸镀材料,其作为一种靶材使用,该靶材用于使用以电子束蒸镀法为首的真空蒸镀法在基板上形成MgO膜。该蒸镀材料不降低蒸镀时的成膜速度,可防止产生飞溅,并且可提高优异的膜特性,例如作为PDP用保护膜使用时的放电特性等。蒸镀材料由氧化镁单晶形成,将所述蒸镀材料的最大投影面的等效圆直径设为D(m)、将与所述最大投影面垂直的方向的厚度设为t(m)、将蒸镀材料的体积设为V(m3)时,D/t为4以上,t为0.4×10-3m以上,V为5×10-9m3以上,并且,所述最大投影面的总面积的90%以上是由(100)面、(110)面及(111)面中的至少一种构成。 | ||
搜索关键词: | 氧化镁 单晶蒸镀 材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种氧化镁单晶蒸镀材料,其特征在于,蒸镀材料由氧化镁单晶形成,将所述蒸镀材料的最大投影面的等效圆直径设为D(m)、将与所述最大投影面垂直的方向的厚度设为t(m)、将蒸镀材料的体积设为V(m3)时,D/t为4以上,t为0.4×10-3m以上,V为5×10-9m3以上,并且,所述最大投影面的总面积的90%以上是由(100)面、(110)面及(111)面中的至少一种构成。
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