[实用新型]镭射雕刻装置的改良无效
| 申请号： | 200620167116.5 | 申请日： | 2006-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN201012603Y | 公开（公告）日： | 2008-01-30 |
| 发明（设计）人： | 杨德昌 | 申请（专利权）人： | 悦群印刷有限公司 |
| 主分类号： | B44B1/00 | 分类号： | B44B1/00;B44B1/06;B44B3/00;B44B3/06;B23K26/16;B23K26/36 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘昌荣 |
| 地址： | 台湾省台北县中和*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种镭射雕刻装置的改良，包括：一镭射产生单元，可产生镭射光束，并朝一预定方向连续发射；一工作平台，设置在该镭射产生单元的操作范围内，提供一工作面用以置放工作物，使该镭射产生单元所产生的光束可在该工作物上进行雕刻作业；其中，该工作面上具有至少一成镂空形状的操作区，以及一压制件固定该工作物在一特定位置上。本实用新型在一个光束穿透工作物时，镭射光束高温灼烧所产生的气化烟雾可直接从该操作区排出，从而避免该高温气化烟雾在工作物表面上造成碳化的现象。 | ||
| 搜索关键词： | 镭射 雕刻 装置 改良 | ||
【主权项】：
1.一种镭射雕刻装置的改良，其特征是：该装置主体包括：一镭射产生单元，可产生镭射光束，并朝一预定方向连续发射；一工作平台，设置在该镭射产生单元的操作范围内，提供一工作面，该工作面上具有至少一成镂空形状的操作区用以置放工作物，该镭射产生单元可产生光束，朝操作区的工作物进行雕刻作业。
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