[实用新型]具有可分别三轴调整的双影像撷取装置的曝光机无效

专利信息
申请号: 200620137898.8 申请日: 2006-09-29
公开(公告)号: CN200972570Y 公开(公告)日: 2007-11-07
发明(设计)人: 林宪维 申请(专利权)人: 科毅科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 天津三元专利商标代理有限责任公司 代理人: 郑永康
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种具有可分别三轴调整的双影像撷取装置的曝光机,包括曝光机台、曝光头、光罩组件、工作物载体、一对影像撷取装置;曝光机台至少有一工作空间;曝光头可移至工作空间的上方且可垂直向下发出预定的光线;光罩组件可移至工作空间中,用以承载一预定的光罩元件,光罩元件上有至少两个第一定位记号;工作物载体可移至工作空间中且位于光罩元件下方,其用以承载一待曝光工作物,工作物上有至少两个第二定位记号;一对影像撷取装置;一对三轴调整装置,每一三轴调整装置用以独立调整对应的影像撷取装置在X轴、Y轴、Z轴方向的空间位置。本实用新型为内藏式设计不占空间,可分别进行三维调整,并适用特殊定位标记。
搜索关键词: 具有 分别 调整 影像 撷取 装置 曝光
【主权项】:
1.一种具有可分别三轴调整的双影像撷取装置的曝光机,包括:一曝光机台、一曝光头、一光罩组件、一工作物载体、一对影像撷取装置;其特征在于,所述曝光机台,至少具有一工作空间;所述曝光头,可移至该工作空间的上方且可垂直向下发出预定的光线;所述光罩组件,可移至该工作空间中,并用以承载一预定的光罩元件,该光罩元件上设有至少两个第一定位记号;所述工作物载体,可移至该工作空间中且位于该光罩元件下方处,其用以承载一待曝光的工作物,该工作物上设有至少两个第二定位记号;所述一对影像撷取装置,以朝该光罩元件的第一定位记号及该工作物的第二定位记号方向撷取预定的影像;一对三轴调整装置,每一三轴调整装置是用以独立调整对应的影像撷取装置在X轴、Y轴、Z轴方向的空间位置。
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