[实用新型]清除半导体元器件上残胶的装置无效

专利信息
申请号: 200620036412.1 申请日: 2006-11-27
公开(公告)号: CN200976343Y 公开(公告)日: 2007-11-14
发明(设计)人: 邹利华 申请(专利权)人: 成都华冠精密电子机械有限公司
主分类号: H01L21/56 分类号: H01L21/56;H01L21/00;B29C37/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 610000四川省成都市科*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型公开了一种清除半导体元器件上残胶的装置,主要涉及半导体制造业。本实用新型要解决的问题是提供一种节约水资源、操作简单、环保的清除半导体元器件上残胶的装置。本实用新型所采用的技术方案是:清除半导体元器件上残胶的装置包括顺序设置切残胶单元、刷残胶单元;其中切残胶单元包括用于切割残胶的刀具(4)以及其他相应的器件;刷残胶单元包括用于刷除残胶的毛刷(5)、残胶废料收集装置以及其他相应的器件;切残胶单元的第一同步传输带(1)与刷残胶单元的第二同步传输带(2)之间设有导轨(8)。本实用新型主要用来清除半导体制造过程中元器件上的残胶。
搜索关键词: 清除 半导体 元器件 上残胶 装置
【主权项】:
1.一种清除半导体元器件上残胶的装置,其特征在于:所述专用设备包括顺序设置的切残胶单元、刷残胶单元;其中切残胶单元包括第一同步传输带(1)、至少两个不重合的设置于第一同步传输带(1)上方的定位传感器(6)、设置于第一同步传输带(1)上方的元器件定位装置、设置于第一同步传输带(1)上方的刀具(4)和相应的控制单元以及至少两个设置于第一同步传输带(1)上方的第一压整轮(7),刀具(4)设置于切除元器件残胶处;刷残胶单元包括第二同步传输带(2)、设置于第二同步传输带(2)上方的毛刷(5)、设置于第二同步传输带(2)上方的元器件定位装置、至少两个设置于第二同步传输带(2)上方的第二压整轮(11)以及设置于第二同步传输带(2)下方的残胶废料收集装置,毛刷设置在刷除元器件残胶处;切残胶单元的第一同步传输带(1)与刷残胶单元的第二同步传输带(2)之间设有导轨(8)。
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