[发明专利]显示器件及其制造方法有效
| 申请号： | 200610156731.0 | 申请日： | 2006-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN1991545A | 公开（公告）日： | 2007-07-04 |
| 发明（设计）人： | 木村肇 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | G02F1/136 | 分类号： | G02F1/136;G02F1/1362;G02F1/133;G02F1/1333;G03F7/20;H01L21/027;G09F9/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张浩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在半透射液晶显示器件中，需要两个抗蚀剂掩模来形成反射性电极和透明电极；因此成本很高。将用作像素电极的透明电极和反射性电极层叠起来。通过使用包括半透射部分的曝光掩模，在反射性电极上形成抗蚀剂图案，其中所述抗蚀剂图案包括具有厚膜厚度的区域、和膜厚度比所述具有厚膜厚度的区域薄的区域。通过使用该抗蚀剂图案，蚀刻反射性导电膜和透明导电膜。因此可以通过使用一个抗蚀剂掩模形成反射性电极和透明电极。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显示器件，包括：晶体管；电连接到所述晶体管的透明电极；电连接到所述透明电极的反射性电极；以及电连接到所述晶体管的存储电容器，其中，所述存储电容器的至少一部分形成在所述反射性电极的下面；并且其中，所述反射性电极的整个下表面与所述透明电极的顶表面相接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所，未经株式会社半导体能源研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200610156731.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：数据输入设备及其方法
- 下一篇：控制显示功能的方法和设备
