[发明专利]用于喷墨液滴定位校准的方法和系统无效
| 申请号： | 200610152430.0 | 申请日： | 2006-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN1939730A | 公开（公告）日： | 2007-04-04 |
| 发明（设计）人： | 约翰·M·怀特;伊曼纽尔·比尔;纪宏彬;林正宗;栗田伸一 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | B41J2/04 | 分类号： | B41J2/04;B41J2/07;B41J29/38 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵飞 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了用于喷墨液滴定位的方法和装置。第一方法包括确定衬底上墨水滴的期望沉积位置；用喷墨打印系统将墨水滴沉积到衬底上；检测衬底上沉积的墨水滴的沉积位置；将沉积位置与期望位置进行比较；确定沉积位置与期望位置之间的差异，并通过调整喷墨打印系统的参数对沉积位置与期望位置之间的差异进行补偿。本发明还提供了许多其他的方面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 喷墨 滴定 校准 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种喷墨打印方法，包括：确定墨水滴在衬底上的期望沉积位置；用喷墨打印系统在所述衬底上沉积所述墨水滴；检测所述被沉积的墨水滴在所述衬底上的沉积位置；将所述沉积位置与所述期望位置进行比较；确定所述沉积位置与所述期望位置之间的差异；以及通过对喷墨打印系统的参数进行调整，对所述沉积位置与所述期望位置之间的差异进行补偿。
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